毎年売上+30％の高成長
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特徴
フォトマスク用の電子ビーム微小寸法測定装置を主力製品としており、光学式、SEM方式を含めても、マスク用寸法測定装置ではトップシェアを取っているようです（同社推定）。ちなみに、SEM方式では、アプライドマテリアルズ（米国）やライカ(ドイツ）よりも同社が先行しており、同社製品がデファクトスタンダードとなっている。
海外売上高比率は85％と高水準。
半導体製造工程の微細化が進む中、次世代露光技術であるEUV露光技術が量産適用されたことで、EUV露光技術に対応できるフォトマスク用CD-SEMを扱う同社の事業環境は非常に良くなっています。フォトマスクと呼ばれるガラス基板上に描いた電子回路の微小な線幅を、電子ビームで計測する検査装置が急成長し、業績も拡大傾向にある。微細化が進み、従来の光学式の測定装置では線幅を計測できなくなり、電子ビームを使った測定装置への置き換えが進んでいる。最新機「ＺＸ（ジーテン）」は微細化で落ちる歩留まりを最小限に抑える特性が顧客に高い評価を得ている。
利益面でも改善が見込まれます。同社は設立翌年1986年に電子ビーム微小寸法測定装置を開発以降、モデルチェンジを繰り返しながら付加価値の向上を追求してきましたが、今期も出荷を最新機種中心とする予定であり、新機種販売による採算性の向上が期待できます。財務状況も健全で、自己資本比率61.6％、実質無借金経営。強みを持つ製品を、安定した顧客基盤に継続的に展開していることで、研究開発型企業であるにも関わらず、強い財務基盤を築くことができています。 フォトマスクと呼ばれるガラス基板上に描いた電子回路の微小な線幅を、電子ビームで計測する検査装置が急成長し、業績も拡大傾向にある。微細化が進み、従来の光学式の測定装置では線幅を計測できなくなり、電子ビームを使った測定装置への置き換えが進んでいる。最新機「ＺＸ（ジーテン）」は微細化で落ちる歩留まりを最小限に抑える特性が顧客に高い評価を得ている。| 【株投資ﾓﾃﾞﾙの発展性】 EUV関連銘柄として脚光を浴びるレーザーテックの4000億円からみるとかなり小柄。 |
| 【ﾎﾛﾝの技術力の高さ】 旭化成（株）と共同開発した大面積シームレスロールモールドの開発は画期的なものでした。この開発内容は国際学会でも発表をしています。この研究の成功を支えたのは、ホロンが独自で開発をした電子ビームのおかげなんです！この開発により、ホロンが世界で初めてロールモールドを観察する装置（ロール用SEM）を作ったこととなり、2011年に微細加工技術部門賞を国際ナノテクノロジー総合展・技術会議にて受賞しています。ホロンの技術が世界的にも高い評価を得た |
- 【A＆Dがﾎﾛﾝ買収の背景】
- 今般、当社は、後述するとおり、対象者との間で資本業務提携をし、半導体関連機器、電子ビーム及びイ オンビーム応用装置に関わる事業における協同を目指し、本公開買付けを実施いたしますが、これは、当社 の計測・計量機器事業の一部である半導体製造装置関連事業の更なる成長を見据えてのことであります。 具体的には、当社は、半導体製造装置関連事業として、創業以来、電子ビーム露光装置向け D/A 変換器（デ ジタル／アナログ変換器）を、半導体の回路の原版となるマスクと呼ばれる石英ガラス基板の製造装置メー カーを中心として供給してまいりました。近時、半導体は大容量化・微細化が進んでおり、これに伴い、回 路の原板となるマスクを作成するための光源も、レーザービームから、電子銃が作り出すより波長の短い電 子ビームへと移行しております。当社は、早くからこの電子銃の開発に取り組んでおり、高出力と安定性を そなえた製品を世に送り出してきました。また、この電子ビームの照射方向を制御するビーム偏向回路など 周辺回路の提供も行っており、それを可能にしているのが、創業以来の基幹技術である A/D・D/A 変換テクノ ロジーを応用した、高性能な超高速・高精度 D/A 変換器（DAC）（電子ビーム露光装置向け D/A 変換器（デジ タル／アナログ変換器））です。また、そのような高性能を実現するため、当社は、高電圧電源装置技術や EB（Electron Beam：電子ビーム）の鏡筒技術等の要素技術（各種製品の開発に必要となる基本的技術）も磨 いてまいりました。
- 当社は、対象者の委託を受け、当社の要素技術を利用して開発及び製造した超高速・ 高精度 D/A 変換器（DAC）を対象者に販売してきました。
- 近時、半導体の集積化及び高度化が進み、マーケットから求められる半導体製造装置の性 能はより高度になってまいりました。当社は、そのようなマーケットのニーズの変化に鑑み、これまでのよ うに当社が当社の要素技術を用いて超高速・高精度 D/A 変換器（DAC）を開発・製造するのみでは、将来的に マーケットのニーズに対して十分に対応できなくなる可能性があると認識しております。そのため、当社は、 今後、当社及び対象者のそれぞれの強みとなる技術を互いに活用し、両社が一体となって半導体製造装置を 開発する必要が出てきたと考えております。具体的には、当社の要素技術を対象者の技術と組み合わせ、今 後必要とされるより高度な半導体製造装置向け試験機の開発を可能にしていく所存です。
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新株発行 ・割当日 20/07/14
発行価格＝****円- 20/08/25
- ●公募
206千株＠***5円 - ●払込日***
希薄化14％ - ●第三者割当先
A＆Dへ246千株 - ●第三者割当売出し
いちよしに割り当て
30千株
- ⮞20/05/15
TSMCが米に半導体工場 - ・21年着工24年量産
・120億ドル（約1兆3千億円）- 半導体の性能向上のカギとなる回路線幅の微細化を、5ﾅﾉﾒｰﾄﾙまで狭めた製品を生産する。TSMCの最先端工場はすべて台湾にあり、5ﾅﾉ品は今年後半から本格出荷が予定されている。 ｺｰﾄﾞ＝TSM
- TSMCは半導体の受託生産で世界シェアの約5割
- 半導体の性能向上のカギとなる回路線幅の微細化を、5ﾅﾉﾒｰﾄﾙまで狭めた製品を生産する。TSMCの最先端工場はすべて台湾にあり、5ﾅﾉ品は今年後半から本格出荷が予定されている。 ｺｰﾄﾞ＝TSM
- 【四季報19/12/13】研究開発型企業
- 最先端半導体開発投資が活発。最新のマスク検査用走査型電子顕微鏡の台湾、国内向けに出荷伸長。稼働率向上も。営業増益幅拡大。中間配実施し増配。
- 21年３月期は前期受注出荷集中の反動減。減益。
- 【追加受注】最先端電子顕微鏡は国内メーカーから後半も１台追加受注し出荷。
- 親会社と連携し次期装置向け技術開発専門チーム設置。前期開始の中間配は継続方針。
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19/3期の概況
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SRM****大面積 継目なし円筒モールド
Seamless Roller Mold (SRM) 最小線幅 100nm以下：幅250mmSRM
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ﾅﾉｲﾝﾌﾟﾘﾝﾄ技術
旭化成との共同研究
平面上に電子ビームを露光し描画する装置は入手出来るが，円筒面上に露光・描画する装置は存在しなかった．そこで，“①長時間安定にµAオーダの大電流を流せる平行電子ビームを発生させ，②これを，デバイスのパターンが描かれている50mm×50mm大のステンシルマスクを通して1：1の等倍露光を行い，③この操作をローラーの回転方向にも横方向にもステップ・アンド・レピートを繰り返し，ローラー表面にパターンを高速に描画する装置”を開発したホロンが電子光学系，旭化成がローラーステージ部分を担当した．位置決め精度は全表面で50nm以下，最良は10nmである．基本特許[9]は兵庫県立大の松井教授と株式会社ホロンが保有し，旭化成もホロンと共願で有用な関連特許を取得している[
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- ⮞19/11/25
ホロン：次世代半導体製造プロセスの普及を追い風に業績拡大へ
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⮞19/07/22- ⮞19/07/22
- ⮞
- ⮞19/04/23
●行使価格は7月8日。- ●次回は早まれば5月は7日頃に20万株程度
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ホロン
20/06/12 5,360 ﾔﾘ - *完売
20/06/09 5,260 ｶｲ 20/05/15 5,000 ｶｲ 20/05/12 5,650 ｶｲ 20/05/11 6,840 ｶｲ 20/05/11 6,770 ｶｲ 20/04/23 5,360 ｶｲ
A＆D
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20/04/01 648 ﾔﾘ 20/02/18 972 ｶｲ 20/02/17 1,019 ｶｲ
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ｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚｚ
